PulsPlasma CVD покрытия

Описание процесса


Еще одно поле для использования открывается благодаря комбинации PulsPlasma®  - азотирования с плазменными процессами нанесения CVD покрытий. Благодаря образованному ранее азотированному слою, дополнительное CVD покрытие позволяет получить экстремальные значения твердости, износостойкости. В результате такой обработки обычно значительно повышается стойкость режущего инструмента к износу.
В качестве основного металлического элемента для формирования покрытия обчно используют Ti.

В качестве источника Ti применяется легко летучее соединение TiCl4. В зависимости от желаемого результата применяются азото- или углеродосодержащие газы, для получения слоев из нитридов (TiN) или карбидов (TiC) титана или их комбинацию Ti[C,N].

При PA CVD обработке упрощенно протекают следующие химические реакции:

TiCl4 + 2 H2 + 0,5 N2 = TiN + 4 HCl
TiCl4 + 2 H2 + CH4 = TiC + 4 HCl

При высокотемпературных CVD технологиях, химическая реакция возможна при высокой температуре от 900 до 1000 °C. В противоположность этому процессу CVD, при PulsPlasma® получение реакционно способной газовой смеси производится активизацией плазмы и разложением. Вследствие этого температуры покрытия могут значительно опускаться, примерно вплоть до 500 °C. Это влечет за собой, что покрытые части не должны подвергаться затем термической обработке (закалка).


Применение


Режущий инструмент из твердого сплава с помощью покрытия CVD получает существенное повышение прочности.

Комбинация процессов азотирования с последующим нанесением слоев CVD значительно повышает прочность конструктивных элементов. С одной стороны, это вызывает улучшенную прочность прилипания твердого слоя и одновременно повышает несущую способность основного материала, благодаря предварительному азотированию без образования связующего слоя.